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我建成首條0.25微米集成電路用 片生產線

東方網2月27日消息:我國第一條可滿足0﹒25微米線寬集成電路要求的8英寸 單晶拋光片生產線,今天在北京有色金屬研究總院建成投產,它標志著我國深亞微米超大規模集成電路用 單晶拋光片的生產達到世界先進水平。

這項由國家計委支持的“直徑8英寸 單晶拋光片國家高技術產業化示範工程”項目,擁有全套自主知識產權,設計能力為年產8英寸 單晶拋光片6000平方英寸,可滿足0﹒25微米集成電路的技術要求。整個項目從開工到建成投產用了14個月。

集成電路技術發展的主要趨勢是提高單塊芯片的元件密度,特別是減小晶體管圖形的幾何尺寸和電路圖形的最小線條寬度,使得單塊芯片上能容納更多元件。隨著超大規模集成電路集成度的提高,芯片面積不斷增大,線寬越來越細, 單晶拋光片的直徑不斷增大,單元制造成本也隨之降低。直徑8英寸 片的市場占有率已超過一半,隨著半導體技術的發展,8英寸 片的市場前景看好。現在,京津、滬寧杭等地已有多條8英寸芯片生產線開工,有的項目正在進行前期準備。

8英寸 單晶拋光片示範工程建成投產,將為我國 片國產化、降低生產成本創造條件,對我國集成電路和信息產業的發展將起到良好的促進作用。

(新華社 袁曉陽 劉紅燦)
    • 申城將建立集成電路設計產業基地
    • |財經新聞|我建成首條0.25微米集成電路用 片生產線(27日 19:54) |IT新聞|你知道網關嗎(27日 19:54)




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